電子工業(yè)半導(dǎo)體制造：在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中，氫氣被廣泛應(yīng)用于多個(gè)環(huán)節(jié)。例如，在硅片的清洗工藝中，氫氣等離子體可用于去除硅片表面的雜質(zhì)和氧化物，硅片表面的清潔和活性。在化學(xué)氣相沉積（CVD）工藝中，氫氣作為載氣和反應(yīng)氣體，參與薄膜的生長(zhǎng)過(guò)程，有助于提高薄膜的質(zhì)量和性能。

管道運(yùn)輸適合大規(guī)模、長(zhǎng)距離運(yùn)輸，但初期建設(shè)投資大；高壓氣態(tài)拖車運(yùn)輸靈活性高，但運(yùn)輸量有限，且隨著運(yùn)輸距離增加，成本上升明顯提純與凈化環(huán)節(jié) 雜質(zhì)含量 不同工業(yè)生產(chǎn)對(duì)氫氣純度要求不同。若原料氣中雜質(zhì)含量高，提純工藝復(fù)雜，成本增加。

粉末冶金：在粉末冶金生產(chǎn)中，氫氣用于還原金屬粉末，如鐵粉、銅粉等，以去除粉末表面的氧化物，提高粉末的純度和活性。同時(shí)，在燒結(jié)過(guò)程中，氫氣作為保護(hù)氣體，防止金屬粉末在高溫下被氧化，燒結(jié)制品的質(zhì)量。