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光刻膠 |
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IP100 系列 I 線膠主要應(yīng)用于無線設(shè)
備、光電子芯片、MEMS 等領(lǐng)域，作為微米、
亞微米光刻圖形轉(zhuǎn)移掩膜保護(hù)層。
INTRODUCTION
IP series I-line photoresist mainly used
in IC manufacture such as wireless devices, optoelectronic chips,MEMS.etc,As a pattern
transfer mask&protective layer in the micron
and sub-micron lithography process . 產(chǎn)品性能
? 高分辨率(0.35umL/S);
? 優(yōu)良的耐熱性能&粘附性;
? 的涂布均勻性;
? 良好的儲存穩(wěn)定性;
? 多種不同粘度型號;
? I 線及寬譜曝光兼容
主營業(yè)務(wù)：顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲存、化學(xué)試劑、國產(chǎn)試劑、半導(dǎo)體材料、電子材料、銳材表面活性劑
代理美國PTI公司雜質(zhì)顆粒尺寸分析試驗(yàn)、檢測設(shè)備及各種試驗(yàn)粉塵。
代理德國DMT公司的符合IEC 60312標(biāo)準(zhǔn)的試驗(yàn)粉塵。 同時，公司還代理進(jìn)口日本JIS標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)粉塵。 滿足國內(nèi)汽車零部件、光纖，電子等行業(yè)企業(yè)的實(shí)驗(yàn)室以及一些立檢測機(jī)構(gòu)對于進(jìn)口試驗(yàn)粉塵的需求。
————— 認(rèn)證資質(zhì) —————
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