Gemini 2 型電子光學鏡筒讓 GeminiSEM 460 成為高束流下獲取高分辨率成像和快速 分析的理想之選。另外，它還集上一代 Gemini 光學系統的所有優勢于一身。例如， 確保了大視野范圍內的無畸變 EBSD 分析和 高分辨率成像的物鏡無漏磁設計。
因此您也能夠在不影響電子光學性能的前 提下傾斜樣品， 甚至還能輕松完成磁性樣 品成像。

Nano-twin 物鏡
Nano-twin 物鏡是一種在低加速電壓條件下 工作的電鏡( EM ) 物鏡。通過優化幾何結 構和靜電場及磁場分布， 獲得出色的信號 探測效率， 從而可以在低電壓下達到亞納 米級分辨率。具體來說， 與標準的 Gemini 物鏡相比，它在低電壓下的像差降低了 3 倍。這使得樣品上的磁場降低了 3 倍， 約 為 1mT ，并能夠進行 1kV 以下亞納米成像， 而無需將樣品浸沒在電磁場中。

分辨率模式
在高分辨率電子槍模式下， 電子束色差降低， 從而實現更小的束斑。
在樣品臺減速技術模式下， 為樣品施加減 速電壓。該減速電壓可進一步提高 1 kV 以 下的圖像分辨率并增強背散射探測器的檢 測效率。

全套探測系統： 根據出射能量和出射角選 擇性地探測樣品的電子
GeminiSEM 系列的全套探測系統有大量不同 的探測器可供選配。通過組合 EsB (能量選 擇背散射) 探測器、 Inlens 二次電子探測器 及 AsB (角度選擇背散射) 探測器獲取樣品 材料、表面形貌或結晶度的信息。入射電子 與樣品作用后可產生二次電子( SE ) 和背散 射電子( BSE )。從納米級樣品表面逃逸出的、 能量小于 50 eV 的二次電子可用來表征樣 品的表面形貌。這些二次電子可通過特設 計的電子束推進器向后加速進入鏡筒，并經 Gemini 物鏡投射到環形 Inlens 二次電子探測 器里。 GeminiSEM 可根據樣品的表面條件在 寬角度范圍內探測二次電子。

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產品應用領域
■ 金屬 / 高分子 / 陶瓷材料
表面粗糙度分析, 高分辨金相分析, 摩擦磨損分析, 斷口分析, 腐蝕研究, 原位分析。
■ 微納加工
結構分析,表面粗糙度分析, 高深寬比結構表征,膜厚測量。
■ 半導體和微電子
表面缺陷定位和分析、發光缺陷觀察,表面粗糙度分析,膜厚測量等。
■ 醫療器械檢測
表面粗糙度分析,金相分析,膜厚測量,微生物觀察等。
■ 生物材料和醫學
金屬表面細胞生長研究, 微生物金屬腐蝕研究, 植入物表面細菌生長表征等。